🧪 kosha2017_048_049
📄 이 사건의 질병 레코드
유해물질 노출 기록 3건
| 측정시기 | 물질 | 농도 | 단위 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
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0.0002~0.0016 | ppm | 부산물로 벤젠 발생 가능성이 있어 평가한 결과, 최고농도수준은 0.0002~0.0016ppm으로 노출기준(0.5ppm)에 비해 매우 낮았고 |
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수치·판단의 출처:
측정값 · 공기 중 농도
1인 검토 완료 · 2차 검토 대기 · lwt
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| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
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0.0001 | ppm | 기하평균 농도범위는 0.0001ppm으로 이는 외기에서 측정한 농도수준 범위였다. |
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수치·판단의 출처:
측정값 · 공기 중 농도
1인 검토 완료 · 2차 검토 대기 · lwt
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| 2008~2013년 |
의료용 방사선
→ 전리방사선 · IARC Group 1
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33.3~57.5 | mSv | 2008년부터 2013년까지 근로자가 건강검진을 통해 33.3~57.5 mSv의 의료용 방사선에 노출되었으나 |
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수치·판단의 출처:
수치 추정값 · 누적노출량
1인 검토 완료 · 2차 검토 대기 · lwt
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근거 유형은 해당 수치·판단이 원문에서 생성된 방식을 구분한 것입니다. 분류 이유·물리량 등은 각 항목에서 확인할 수 있습니다. 검토 상태는 별도로 표시합니다. AI 분류는 예비 결과이며, 1인 검토는 최종 확정 전 단계입니다.
📅 노출기간 1건
| 시작시기 | 종료시기 | 총기간 | 빈도 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 1999년 8월 2일 | 2015년 4월 (사망) | 약 15년 8개월 | — | 근로자는 1999년 8월 입사하여 약 15년 8개월간 근무하는 동안 습식식각 공정 담당, 공장 기획업무 및 주재원, LCD PC 기술팀 스텝 업무 등을 하였다. |
🏭 작업환경 4건
| 공정 | 환기설비 | 환기 불량한 공간 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| LCD 습식식각(wet etch), 증착(deposition) 공정 생산라인 구축 및 양산업무 | — | — | 1999년 8월 2일 □사업장에 입사하여 LCD 습식식각(wet etch), 증착(deposition) 공정 생산라인 구축 및 양산업무를 수행하다가 |
| TFT공정 초기 생산라인 구축 업무 | 불명 | — | 2010년 하반기 부터는 TFT공정 초기 생산라인 구축 업무를 수행하였다.
방사선 차폐 설비도 갖추지 못했고, 사업장의 공기순환구조로 인해 벤젠, 포름알데히드, 전리방사선, 비전리방사선 등에 노출되어 그로 인해 상병 발생하였다고 주장하였다. |
| 공정 테스트 | — | — | 과거 근로자가 공정 테스트를 위해 약액 탱크 내부에 접근했을 때는 보다 높은 수준의 농도에 노출되었을 것으로 추정된다. |
| CVD, Sputter, 포토 공정 등의 타 공정 라인 셋업 | 미흡 | — | 동일 층에서 CVD, Sputter, 포토 공정 등의 타 공정 라인도 함께 셋업 중 이었으며, 공정간 격벽이 제대로 이루어지지 않았고, 클린룸 내 순환공기가 공유 된다는 점에서 이들 공정에서 사용된 물질에도 복합적으로 노출되었을 것으로 추정된다. |
🦺 보호구 0건
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