🧪 kosha2023_159_162
⚗️ 유해물질 측정 0건
측정정보가 없습니다.
📅 노출기간 2건
| 시작시기 | 종료시기 | 총기간 | 빈도 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 1995년 7월(당시 만17세) | 2004년 8월까지 | 약 9년2개월간 | 교대 근무 | 1995년 7월부터 2004년 8월까지 약 9년2개월간 교대 근무하였다. |
| 1995년 7월(당시 만17세) | 2004년 9월에 자녀를 출산하기 전까지 | 약 9년간 | — | 근로자 ○○○은 1995년 7월(당시 만17세)부터 2004년 9월에 자녀를 출산하기 전까지 □사업장에서 약 9년간 포토마스크 제작공정(포토, 식각 공정) 오퍼레이터로 근무하였다. |
🏭 작업환경 3건
| 공정 | 환기설비 | 환기 불량한 공간 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| 포토마스크 제작공정(포토, 식각 공정) 오퍼레이터로 각 설비마다 레티클(회로원판, Reticle 또는 Mask)을 로드/언로드 하는 업무와 현상액과 식각액을 설비에 넣는 화학물질 공급업무를 수행 | — | — | 근로자는 포토마스크를 생산하는 오퍼레이터로 각 설비마다 레티클(회로원판, Reticle 또는 Mask)을 로드/언로드 하는 업무와 현상액과 식각액을 설비에 넣는 화학물질 공급업무를 수행하였다. |
| 코팅(PR) -> 노광 -> 현상-> 베이크-> Plasma Descum -> 식각(wet/dry) -> 박리 -> 측정 -> 클리닝 -> 검사의 공정, 그 중 노광에서 식각까지 담당 | — | — | 근로자가 있었던 반도체 라인에서는 코팅(PR) -> 노광 -> 현상-> 베이크-> Plasma Descum -> 식각(wet/dry) -> 박리 -> 측정 -> 클리닝 -> 검사의 공정이 진행되었다. |
| 해당 반도체 라인은 포토마스크를 수동으로 제작하는 곳으로 마스크가 담긴 박스를 빼서 설비에 넣는 언로드/로드 업무를 직접 수행 | — | — | 해당 반도체 라인은 포토마스크(Mask or Reticle : 유리기판위에 반도체의 미세회로를 형상화 한 것)를 수동으로 제작하는 곳이라 마스크가 담긴 박스를 빼서 설비에 넣는 언로드/로드 업무를 직접 수행하였다. |
🦺 보호구 0건
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