🧪 kosha2024_075_076
📄 이 사건의 질병 레코드
⚗️ 유해물질 측정 1건
| 측정시기 | 물질 | 농도 | 단위 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
|
최대 0.0002 | ppm | 벤젠의 노출수준은 최대 0.0002ppm 수준이었을 것으로 작업환경 노출에 의해 정자 이수성과 관련이 있다고 보고되었던 수준(1ppm, TWA 기준)과 비교하여 그 노출 수준은 높지 않은 것으로 평가된다. |
📅 노출기간 2건
| 시작시기 | 종료시기 | 총기간 | 빈도 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 2004년 12월 | 2006년 12월 | 2년 | — | 근로자는 2004년 12월부터 2006년 12월까지 □디스플레이 △캠퍼스 안전환경팀에서 2년간 근무하였다. |
| 2006년 12월 | 2011년 12월 | 약 5년 | — | 2006년 12월부터 2011년 12월까지 약 5년간 ◯캠퍼스에서 박막트랜지스터(TFT) 자동광학검사(AOI) 설비 유지보수를 담당하는 엔지니어로 근무하였다. |
🏭 작업환경 2건
| 공정 | 환기설비 | 환기 불량한 공간 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| 라인점검, PM(AOI설비 클리닝 등), 설비에러대응 및 모니터링 | — | — | 담당업무는 라인점검, PM(AOI설비 클리닝 등), 설비에러대응 및 모니터링으로 구분할 수 있다. |
| 가공라인(FAB) 내 에러 조치 시 모든 공정(포토, 식각 등)에서 설비를 동시에 열고 클리닝 작업 | — | — | 가공라인(FAB) 내 에러 조치 시 모든 공정(포토, 식각 등)에서 설비를 동시에 열고 클리닝 작업 등을 진행하였다. |
🦺 보호구 1건
| 종류 | 착용여부 | 적정성 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| 호흡보호구, 장갑, 보호복 | 착용 | 화학물질에 대한 적절한 호흡용 보호구를 착용하지 않아 | 당시 착용한 보호구로는 방진복 덴탈마스크, 니트릴 장갑을 착용하여 화학물질에 대한 적절한 호흡용 보호구를 착용하지 않아 가공라인에서 발생하는 유해물질에 더 고농도로 노출되었다 주장하였다. |